真空離子鍍膜的定義、原理、特點

　　1.真空離子鍍膜的定義∶

　　在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發物質離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時，把蒸發物或其反應物蒸鍍在基片上。

　　離子鍍把輝光放電、等離子體技術與真空蒸發鍍膜技術結合在一起

　　2.真空離子鍍膜的特點∶

　　(1)鍍層附著性能好,膜層不易脫落

　　(2)繞鍍性好，改善了表面的覆蓋度

　　(3)鍍層質量好

　　(4)沉積速率高,成膜速度快

　　(5)鍍膜所適用的基體材料與膜材范圍廣

　　3.真空離子鍍膜的原理︰

　　真空離子鍍膜是真空蒸發和真空濺射鍍膜結合的一種鍍膜技術。離子鍍的過程是在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質(膜材)部分離化，在工作氣體離子或者被蒸發物質的離子轟擊作用下，把蒸發物質或其反應物沉積在被鍍基片表面的過程。