在我們進行等離子前處理的清洗工藝當中，等離子清洗機目前無疑成為了現在市場的主流。而等離子清洗機的核心就是通過等離子體對物體的表面進行反應來進行清洗清洗。那么等離子體在對物體表面清洗的過程中，發生的物理反應和化學反應又是怎么回事呢?那接下來讓小編Rogen帶你來認識一下吧!
 

　　等離子體與固體表面的反應可分為物理反應和化學反應:
 

　　1、物理反應
 

　　物理反應機制是活性顆粒轟擊待清潔表面，使污染物脫離表面，最終被真空泵吸走;
 

　　以物理反應為主的等離子反應為中心的等離子體清洗，其優點是自身沒有化學反應，清洗表面沒有氧化物，能夠維持被清洗物的化學純度的缺點是對表面造成很大的損傷，產生很大的熱效應，對被清洗表面的各種物質的選擇性差，腐蝕速度低。
 

　　2、化學反應
 

　　化學反應機制是各種活性顆粒和污染物反應產生揮發性物質，然后由真空泵吸走揮發性物質。
 

　　以化學反應為中心的等離子體清洗的優點是清洗速度高，選擇性好，有效去除有機污染物，缺點是表面產生氧化物。與物理反應相比，化學反應的缺點難以克服。
 

　　而且，兩種反應機制對表面微觀形態的影響明顯不同，物理反應可以使表面在分子級范圍內更加粗糙，改變表面的粘接特性。
 

　　另一種等離子體清洗在表面反應機制中起著物理反應和化學反應的要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕。兩種清洗可以相互促進。離子轟擊會損壞被清洗表面，削弱其化學鍵或形成原子狀態，容易吸收反應劑。離子碰撞會加熱被清洗的物體，使其更容易反應。其效果是選擇性、清洗率、均勻性和方向性好。
 

　　常見的等離子物理清洗工藝是氬等離子清洗。氬本身就是惰性氣體，等離子體的氬不與表面發生反應，而是通過離子轟擊使表面干凈。常見的等離子化學清洗工藝是氧等離子清洗。由等離子產生的氧自由基非常活躍，易與碳氫化合物發生反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等揮發性物質，從而去除表面污染物。
 

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