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PVD涂層和等離子體噴涂哪個(gè)更耐磨?

來(lái)源:本站作者:超級(jí)管理員發(fā)布時(shí)間:2024-11-05瀏覽量:8102

涂層 PVD 它是一種等離子體涂層工藝,涉及物理過(guò)程,將另一種材料的薄固體層沉積在表面或部件上,使物體更加耐用。涂層PVD和CVD 不同,CVD 由于涂層是化學(xué)氣相沉積, PVD 無(wú)需在物體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),使涂層工作。涂層 PVD 可以用幾種不同的技術(shù)來(lái)完成。


最常見的技術(shù)之一是等離子體濺射沉積。在這個(gè)過(guò)程中,使用等離子體轟擊材料,導(dǎo)致一些材料蒸發(fā),然后蒸汽沉積到所需的表面。


物理氣相沉積是什么?(PVD)涂料,它們是怎樣生產(chǎn)的?接下來(lái)我們一起帶著好奇去探索一二:


首先,PVD 涂層是通過(guò)在適當(dāng)?shù)谋砻胬淠煌牧系恼羝纬傻某练e物。金屬、碳、陶瓷、玻璃或聚合物是最常用的材料。在薄金屬薄膜的生產(chǎn)中,蒸發(fā) PVD 等離子體噴涂是一種特殊形式。


對(duì)此技術(shù)而言,熱等離子體火焰是在某一工作氣體(如空氣、氙氣、氮?dú)獾?中產(chǎn)生的,然后以細(xì)粉的形式引入涂層材料。當(dāng)它撞擊相對(duì)較冷的基材表面時(shí),這種能量迅速熔化或蒸發(fā),形成相當(dāng)厚的薄膜。


等離子體噴涂的一個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)是可以在大氣壓下進(jìn)行,所以不需要真空設(shè)備。這個(gè)過(guò)程也很快。但是,涂層面積往往較小。

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所以,等離子體噴涂通常由機(jī)器人臂完成,機(jī)器人將等離子體噴頭均勻地移動(dòng)到基片上。通過(guò)這種技術(shù),大面積的涂層可以在短時(shí)間內(nèi)完成。等離子體噴涂常用于高溫涂層,如鈦氧化物、氧化鋁或氧化鋁。


另一方面,濺射是基于用原子或離子對(duì)目標(biāo)(即要沉積的材料塊)進(jìn)行轟擊。濺射可以在復(fù)雜的三維表面形成涂層。因此,它掃描電子顯微鏡(SEM)它被廣泛使用。


這是因?yàn)镾EM樣品必須有導(dǎo)電表面。如果表面電阻很高,那么在放入SEM之前,必須在上面涂一層薄金屬薄膜。這是因?yàn)闉R射粒子能量很高,但是濺射的原子溫度很低。因此,即使是熱敏材料,如生物樣品,也可以進(jìn)行物理氣相沉積涂層。


很多現(xiàn)代工業(yè)都在其制造和供應(yīng)線上使用PVD技術(shù),下面是一些依賴PVD的例子:


由于PVD可以用來(lái)沉積氮化鉻、氮化鈦等硬涂層,因此對(duì)制造高質(zhì)量、重型工具有很高的要求。比如鉆頭、刀具、螺絲刀。物理氣相沉積涂層的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是可以保護(hù)工具和機(jī)械免受腐蝕。


PVD 沉積技術(shù)主要用于提高耐磨金屬零件的耐磨性,或者使其具有耐腐蝕性。一般情況下,發(fā)動(dòng)機(jī)或底盤的零件都會(huì)經(jīng)過(guò)薄膜涂層處理。


PVD不僅可以沉積金、銀、鉑涂層,還可以用來(lái)給不銹鋼零件上色,使物品具有精致的美感。后者通常通過(guò)在鋼基上涂上黃銅、銀或金來(lái)實(shí)現(xiàn)。


從生產(chǎn)高度復(fù)雜的鏡子到特殊涂層的玻璃,PVD在光學(xué)領(lǐng)域的可能應(yīng)用范圍。玻璃片、透鏡或棱鏡上可以沉積保護(hù)、反射或吸收層。這些產(chǎn)品在現(xiàn)代高科技光學(xué)中發(fā)現(xiàn)了許多用途,從激光元件到光學(xué)儀器。


PVD(通常是濺射)通常用于微芯片和薄膜光伏電池兩種半導(dǎo)體應(yīng)用。在前者中,鉑、鎢或銅等大多數(shù)金屬被濺射;有時(shí)是多層沉積。在后者中,玻璃或塑料基板上涂覆了稀土、金屬或復(fù)合材料。


PVD涂層只是涂覆表面的一種方法。其它方法需要化學(xué)物質(zhì),這些過(guò)程通常需要大量的清潔,而且對(duì)環(huán)境不友好。PVD涂層比這些方法更安全。


另外,PVD涂層幾乎可以用于任何類型的無(wú)機(jī)材料。在許多工業(yè)和研究應(yīng)用中,等離子體技術(shù)及其處理方法用于表面化學(xué)變化。


采用干法清洗、活化、蝕刻、沉積物對(duì)材料進(jìn)行表面處理是一種強(qiáng)大、成本效益高的工藝選擇。能夠執(zhí)行具有控制可重復(fù)性和可擴(kuò)展設(shè)備的工藝選擇,使等離子體處理成為任何制造公司或研究團(tuán)隊(duì)的理想核心競(jìng)爭(zhēng)力。


在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中,等離子體清洗技術(shù)已經(jīng)成為一種常見的表面清洗方法。它能有效徹底地去除物體表面的污垢和雜質(zhì),為后續(xù)的加工和涂層提供良好的表面質(zhì)量。


那么,常見的等離子體清洗機(jī)使用氧氣、氨氣和氬氣。氧氣,離子質(zhì)量大,沖擊力強(qiáng),能有效破壞待清洗物體表面的污垢和雜質(zhì),清除,下集我們?cè)僖黄鹛骄坑檬裁礆怏w清洗更好,敬請(qǐng)期待,我們一起揭開清洗技術(shù)的神秘之處!


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